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【2h】

High-Q photonic crystal nanocavities on 300 mm SOI substrate fabricated by 193 nm immersion lithography

机译：通过193nm浸没式光刻制造的300mm sOI衬底上的高Q光子晶体纳米腔

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作者
Xie, Weiqiang; Fiers, Martin; Selvaraja, shankar kumar; Van Campenhout, Joris; Absil, P; Van Thourhout, Dries;
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作者单位

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年度 2012
总页数
原文格式 PDF
正文语种 eng
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